г.Екатеринбург, ул.Бебеля, д.17, оф.518
+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32
тел/факсИНН 6658255545, КПП 665801001, р/с 40702810608140000034
в ОАО “РГС Банк”, к/с 30101810600000000972, БИК 046577972
Главная / Технологическое оборудование для микроэлектроники / Плазменные процессы / Плазмохимическое осаждение
Плазмохимическое осаждение
- Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD
- Установка плазмохимического осаждения Vision 410 PECVD
- Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Apex SLR HDPCVD
- Установка плазмохимического осаждения Versaline PECVD
- Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Versaline HDPCVD
- Установка плазмохимического осаждения LAPECVD
- Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения