pic1pic2pic3pic4pic5


г.Екатеринбург, ул.Бебеля, д.17, оф.518

+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32

 тел/факс

ИНН 6658255545, КПП 665801001, р/с 40702810608140000034
в ОАО “РГС Банк”, к/с 30101810600000000972, БИК 046577972
Главная / Технологическое оборудование для микроэлектроники / Плазменные процессы / Плазмохимическое травление / Установка плазмохимического травления Vision 420 RIE

Установка плазмохимического травления Vision 420 RIE

1v420   2v420   3v420   4v420

 

 

Vision 420 RIE компании Advanced Vacuum — это компактная, надежная, экономически эффективная и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмохимического и реактивного ионного травления для R&D-лабораторий, мелкосерийных, пилотных и серийных производств.

Установка Vision 420 RIE позволяет травить следующие виды материалов:

  • Диэлектрики: оксиды, нитриды.
  • Полупроводниковые материалы: кремний, германий, материалы группы AIIIBV — GaAs, GaN, InP, InGaAs и другие.
  • Полимеры: резисты, полиимиды.

Ключевые преимущества установки Vision 420 RIE:

  • Большая область загрузки — круглый стол диаметром 406 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
  • Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±3%.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI).
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь <1 м2.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.

Основные технические характеристики установки Vision 420 RIE

Размер электрода 16″ (406 мм) в диаметре
Температура электрода Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +20...25 °С, доступны другие варианты.
Материал электрода Алюминий
Тип плазмы Емкостная
ВЧ генератор 600 Вт, 13,56 МГц. Опционально 1200 Вт, 13,56 МГц
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия.
Откачная система Форвакуумный насос 80 м3/ч, сухой безмасляный 
Турбомолекулярный насос 300 л/с 
Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 4 линии (стандартно). Опционально до 8 линий
Система контроля, ПО Cortex на базе Windows 7
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 667×1146×1880 мм
Сертификация CE, SEMI-2, S8
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
  • Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
  • Специальные держатели образцов,
  • Пакет для установки через стенку ЧПП,
  • Расширенная гарантия производителяые опции

Различные варианты размещения подложек для установки Vision 420 RIE

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического травления