Установка плазменной обработки Femto

f1   f2   f3   f4   f5   f6

 

Установки серии Femto предназначены для плазмохимической обработки образцов малых и средних размеров в R&D-лабораториях и на опытных производствах. В бюджетных малогабаритных установках можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию идеально подходящую под конкретное применение.

В отличие от серий Zepto и Atto, установки Femto могут быть оснащены камерой из нержавеющей стали или алюминия, дверцей на петлях, барабаном для обработки сыпучих материалов, электродом для реактивно-ионного травления и микроволновым генератором плазмы с частотой 2,45 ГГц. Основным преимуществом установок серии Femto является большое количество вариантов конфигурации при относительно низкой стоимости и малых габаритах.

Типичные применения:

  • Керамика 60×48 мм: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
  • Полупроводниковые пластины до 3″: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
  • R&D и исследования.

Технические характеристики установок серии Femto

Камера
  • Круглая камера из нержавеющей стали с крышкой Ø100 мм, глубина 300 мм
  • Прямоугольная камера из нержавеющей стали с дверцей 103×103 (В)×285 мм
  • Круглая камера из алюминия с крышкой или дверцей Ø95 мм, глубина 280 или 600 мм
  • Круглая камера из кварца с крышкой или дверцей Ø95 мм, глубина 280 или 600 мм
  • Круглая камера из боросиликатного стекла с крышкой или дверцей Ø95 мм, глубина 280 или 600 мм
Объем камеры 1,9–6 л
Газовая система Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ
Генератор плазмы
  • 40/80/100 кГц: 100, 200, 500 и 1000 Вт
  • 13,56 МГц: 50, 100 и 300 Вт
  • 2,45 ГГц: 100 и 300 Вт
Электрод
  • Одно- или многоуровневый электрод
  • РИТ-электрод
Управление
  • Ручное
  • Автоматическое (сенсорный дисплей)
  • Автоматическое (ПК)
Датчик давления
  • Пирани
  • Баратрон (для работы с коррозионными газами и РИТ-травления)
Загрузка образцов
  • Поддон из алюминия
  • Поддон из нержавеющей стали
  • Поддон из боросиликатного стекла
  • Поддон из кварца
  • Водоохлаждаемый поддон
  • Лодочка из кварца для групповой обработки пластин
  • Барабан для порошков
  • Барабан для объемных образцов
Вакуумный насос Различные варианты под требования заказчика
Габариты (Ш×В×Г) 345×220×420 мм 
Доступны различные варианты корпусов

 

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазменной обработки Diener Electronic.