Установка плазмохимического осаждения Versaline PECVD

Plasma-Therm Versaline — это современная, надежная, высокопроизводительная платформа, на базе которой реализованы процессные модули всех ключевых типов плазменных процессов травления и осаждения материалов: RIE, RIE-ICP, PECVD, HDPCVD, DSE. Все процессные модули на платформе Versaline имеют стандартный механический интерфейс MESC и могут быть оснащены различными загрузчиками подложек, в зависимости от масштаба производства:

автоматический шлюз — для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств;
автоматический кассетный загрузчик — для пилотных и серийных производств;
роботизированный загрузчик, объединяющий модули в кластер, — для крупносерийных производств.

Установка Plasma-Therm Versaline PECVD в исполнении с автоматическим шлюзом предназначена для плазмостимулированного осаждения из газовой фазы. Установка идеально подходит для решения стандартных задач осаждения SiO2 и Si3N4 в том случае, когда необходима высокая производительность, низкая стоимость процесса и технического обслуживания системы.
Установка Plasma-Therm Versaline PECVD позволяет осаждать следующие виды материалов:

Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy;
Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Versaline PECVD:

Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм, поштучная обработка.
Равномерность осаждаемого покрытия по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине: типично лучше ±2%.
Наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации.
Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
Простой, интуитивно понятный интерфейс.
Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
Многоуровневый доступ пользователей.
Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
Простота использования и обслуживания.
Малая занимаемая площадь.
Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
Возможность замены шлюза автоматическим кассетным загрузчиком или роботом.

Основные технические характеристики установки Versaline PECVD

Размер электрода	Для пластин до 200 мм в диаметре
Загрузка	Поштучная шлюзовая загрузка, автоматический шлюз. Опционально автоматическая кассетная загрузка или робот
Температура электрода	+80...350 °С
Материал электрода	Алюминий
Тип прижима	Мягкий механический
Тип плазмы	Емкостная
ВЧ-генератор	600 Вт, 13,56 МГц
Вакуумная камера	Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система	Форвакуумный насос 600 м3/ч, безмасляный
Уровень вакуума	<10-6 торр
Контроль давления процесса	Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ	4 линии (стандартно). Опционально до 8 линий
Система контроля	На базе ControlWorks
Электропитание	380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В)	640×1887×2078мм для конфигурации с автоматическим шлюзом
Сертификация	CE, SEMI-2, S8
Удаленный мониторинг состояния системы	SECS/GEM

Основные опции

Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD)
Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
Специальные держатели образцов,
Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
Пакет для установки через стенку ЧПП: два варианта,
Расширенная гарантия производителя

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения