Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD

Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD компании Advanced Vacuum— это компактная, надежная, технологически гибкая и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств.

Установка Vision 310 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:

Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy.
Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Vision 310 PECVD:

Большая область загрузки — круглый стол диаметром 305 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
Изменяемое расстояние между газовым душем и электродом.
Равномерность осаждения по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
Простой, интуитивно понятный интерфейс.
История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
Многоуровневый доступ пользователей.
Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
Простота использования и обслуживания.
Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».

Основные технические характеристики установки Vision 310 PECVD

Размер электрода	12″ (305 мм) в диаметре
Температура электрода	+40...380 °С
Материал электрода	Алюминий. Опционально доступны другие материалы
Тип плазмы	Емкостная
ВЧ-генератор	300 Вт, 13,56 МГц. Опционально генератор LF
Вакуумная камера	Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система	Форвакуумный насос 250 м3/ч, масляный или безмасляный Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика
Уровень вакуума	<10-6 торр
Контроль давления процесса	Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ	5 линий (стандартно). Опционально до 10 линий
Система контроля, ПО	ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet
Электропитание	380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В)	730×934×2147 мм с газовым шкафом на каркасе 730×934×1172 мм без газового шкафа на каркасе Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
Сертификация	CE, SEMI-2, S8

Основные опции

Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD)
Сухой форвакуумный насос
Дополнительные газовые линии (до 10 в сумме)
Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ)
Перчаточный бокс
Специальные держатели образцов
Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM
Пакет для установки через стенку ЧПП
Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
Расширенная гарантия производителя
Специальные опции под заказ

Различные варианты размещения подложек для установки Vision 310 PECVD

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения