г.Екатеринбург, ул.Волгоградская, д.193, оф.310
+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32
тел/факсКомпактная недорогая настольная установка совмещения-экспонирования OAI Model 200 предназначена для решения большого количества задач фотолитографии R&D-лабораторий и мелкосерийных производств. Благодаря использованию современной технологии «воздушного подшипника» OAI Model 200 быстро и аккуратно поднимает и прижимает даже очень хрупкие подложки к фотошаблону без риска их повреждения. Конструкция системы совмещения позволяет позиционировать подложку с высокой точностью (1 мкм) и получать топологии с разрешением меньше 1 мкм.
Установка может быть оборудована модулем наноимпринтинга для быстрого прототипирования устройств микрофлюидики, а также модулем для ИК-совмещения по обратной стороне (модель 200IR). Опционально установка оснащается вибростолом. Типичные применения установки Model 200 — исследования и производство устройств МЭМС; многономенклатурное мелкосерийное производство.
Максимальный размер подложки | Круглые — Ø150 мм Квадратные — 150×150 мм |
Максимальный размер фотошаблона | 178×178 мм |
Разрешение |
|
Тип излучения | Ближний и глубокий УФ (выбирается по требованию заказчика) |
Мощность лампы |
|
Равномерность освещения (6″×6″) | ±5% |
Интенсивность освещения (при 350 Вт) | 8 мВт/см2 (при λ=365 нм)
|
Способ экспонирования |
|
Способ совмещения | Микрометрические винты |
Точность совмещения | 1 мкм |
Обратное совмещение | Инфракрасное (модель 200IR) |
Точность обратного совмещения | 3–5 мкм |
Автоматическое поддержание интенсивности освещения на заданном уровне | Есть |
Точность поддержания освещенности | ±2% |
Время экспозиции |
|
Антивибрационный стол | Опция |
Электропитание | 220 В, 50 Гц, 20 А, 1фаза |
Габариты (Ш×В×Г) | 790×940×640 мм |
Вес | 70 кг |