Установка совмещения и экспонирования OAI 200/ 200IR

3cbc0a8eb36462987bfa2843a7403436

Компактная недорогая настольная установка совмещения-экспонирования OAI Model 200 предназначена для решения большого количества задач фотолитографии R&D-лабораторий и мелкосерийных производств. Благодаря использованию современной технологии «воздушного подшипника» OAI Model 200  быстро и аккуратно поднимает и прижимает даже очень хрупкие подложки к фотошаблону без риска их повреждения. Конструкция системы совмещения позволяет позиционировать подложку с высокой точностью (1 мкм) и получать топологии с разрешением меньше 1 мкм.

Установка может быть оборудована модулем наноимпринтинга для быстрого прототипирования устройств микрофлюидики, а также модулем для ИК-совмещения по обратной стороне (модель 200IR). Опционально установка оснащается вибростолом. Типичные применения установки Model 200 — исследования и производство устройств МЭМС; многономенклатурное мелкосерийное производство.

Преимущества установок Model 200/ 200IR:

  • Малые габариты и низкая стоимость.
  • Минимальные повреждения подложек из хрупких материалов.
  • Высокоточное совмещение с точностью 1 мкм.
  • Простая и быстрая смена подложек и фотошаблонов.
  • Обратное инфракрасное совмещение с точностью 3–5 мкм (модель 200IR).
  • Высокая равномерность освещенности.
  • Возможность быстрого изменения длины волны излучения.
  • Высокая точность поддержания освещенности на заданном уровне.
  • Возможность оборудования системы модулем наноимпринтинга.

Технические характеристики установки OAI — Model 200/ 200IR

Максимальный размер подложки Круглые — Ø150 мм 
Квадратные — 150×150 мм
Максимальный размер фотошаблона 178×178 мм
Разрешение
  • Вакуумный контакт — <1 мкм
  • Жесткий контакт — 1 мкм
  • Мягкий контакт — 1–2 мкм
  • Зазор (15 мкм) — 3–6 мкм
Тип излучения Ближний и глубокий УФ (выбирается по требованию заказчика)
Мощность лампы
  • 200, 350, 500, 1000, 2000 Вт (БУФ)
  • 500, 1000, 2000 Вт (ГУФ)
Равномерность освещения (6″×6″) ±5%
Интенсивность освещения (при 350 Вт) 8 мВт/см2 (при λ=365 нм) 
  • 15 мВт/см2 (при λ=405 нм)
Способ экспонирования
  • Мягкий контакт
  • Жесткий контакт
  • Вакуумный контакт
  • Зазор
Способ совмещения Микрометрические винты
Точность совмещения 1 мкм
Обратное совмещение Инфракрасное (модель 200IR)
Точность обратного совмещения 3–5 мкм
Автоматическое поддержание интенсивности освещения на заданном уровне Есть
Точность поддержания освещенности ±2%
Время экспозиции
  • 0,1–99 с (при шаге 0,1)
  • 1–999 с (при шаге 1)
Антивибрационный стол Опция
Электропитание 220 В, 50 Гц, 20 А, 1фаза
Габариты (Ш×В×Г) 790×940×640 мм
Вес 70 кг