Установка безмасковой литографии Miva Technologies 2064/20128

Установки безмасковой литографии Miva Technologies серии 2064/20128 представляют собой высокопроизводительные генераторы изображений, подходящие как для производства фотошаблонов, так и для прямой печати на поверхности подложек. Установки 2064/20128 основаны на принципе растровой проекционной литографии с матрицей микрозеркал, положение которых формирует изображение на поверхности образца. Большой размер матрицы позволяет получать самые высокие показатели производительности на рынке безмасковых генераторов изображений.

Технические характеристики установки Miva Technologies – 2064/20128:

	2064	20128
Максимальный размер подложки, мм	510 х 610
Типоразмеры подложек	60 х 48 мм, 1"-12", нестандартные
Разрешение, мкм	6,5	3,3
Точность позиционирования стола, мкм	±2
Точность печати	10% от минимального размера
Производительность	1 дм² за 10 мин. (в зависимости от типа фоторезиста)	1 дм² за 38 мин. (в зависимости от типа фоторезиста)
Требования к среде	Температура 21 ± 2 °С Влажность 50%
Максимальное отклонение положения топологии (на всей площади экспонирования без / с высокоточной калибровки)	± 9 мкм / ±2 мкм
Возможность экспонирования излучением со следующими длинами волн	Для позитивного фоторезиста – 375 нм, 388 нм, 404 нм (при заказе выбирается одна длина волны) Для фотоэмульсии – 525 нм
Электропитание	220 В, 50 Гц
Сжатый воздух или азот	60 л/мин. при 1,8 бар
Габариты (ШхВхГ), мм	1220 х 1600 х 1480 мм
Вес	750 кг