Установка быстрого термического отжига RTP 100

PTP100

Технические характеристики установки RTP 100

Максимальный размер подложки Диаметр 100 мм (4″) , рабочая область 100×100 мм
Материал камеры Кварцевое стекло (водоохлаждаемая камера)
Высота камеры 10 мм
Система загрузки подложек Поддон из кварцевого стекла Опциональный держатель из пирографита или графита, покрытого SiC
Уровень вакуума
  • До 10-3 мбар
  • До уровня 10-6 мбар (модель RTP 100-HV)
Максимальная температура процесса До +1200 °С
Тип нагревателя ИК-лампы (общая мощность 18 кВт)
Зоны нагрева верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева До 150 K/с
Скорость охлаждения
  • От +1200 до +400 °С: 200 К/мин
  • От +400 до +100 °С: 30 К/мин
  • подложка охлаждается азотом
Температурный контроллер Встроенный
Используемые газы
  • Азот, кислород, форминг-газ
  • В базовой комплектации один РРГ 5 slm
Электропитание 3×32 А, 380 В, 3 фазы
Размер установки (Ш×Д×В) 505×504×420 мм (настольное размещение)
Вес печи 55 кг

Опции:

  • Дополнительные газовые линии с РРГ (всего до 4 шт)
  • Держатели подложек из кварца, пирографита, графита, покрытого SiC
  • Дополнительная термопара
  • Различные вакуумные насосы
  • Чиллер
  • Дополнительная рабочая камера

Сравнительная таблица основных характеристик установок быстрого термического отжига UniTemp серии RTP и VPO