г.Екатеринбург, ул.Волгоградская, д.193, оф.310
+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32
тел/факс
Plasma-Therm Mask Etcher — это установка, специально предназначенная для производства фотошаблонов высокого разрешения. Установка использует технологию индуктивно-связанной плазмы и позволяет получать элементы с топологическим размером менее 22 нм. Благодаря особой конструкции, Mask Etcher обладает набором уникальных технологических преимуществ, необходимых при производстве фотошаблонов:
Размер электрода | От 11″ до 15,6″ в диаметре |
Загрузка | Автоматизированная загрузочная станция (ALS) Открыватель контейнера SMIF с буферной зоной |
Система контроля | На базе ControlWorks |
Вакуумный насос | Турбомолекулярный насос 1200 л/с |
Газовые линии | До 8 каналов с цифровыми РРГ |
Система отслеживания окончания процесса (на базе EndPointWorks) | Оптический эмиссионный интерферометр (OEI) Лазерный рефлектометр (LES) |
ВЧ-генератор | ICP: 2000 Вт, 2 МГц |
Варианты установки | Через стенку ЧПП |
Электропитание | 380 В, 50 Гц, 3 фазы |
Сертификация | CE, SEMI-S2, S8 |