Установка травления фотошаблонов Mask Etcher

Plasma-Therm Mask Etcher — это установка, специально предназначенная для производства фотошаблонов высокого разрешения. Установка использует технологию индуктивно-связанной плазмы и позволяет получать элементы с топологическим размером менее 22 нм. Благодаря особой конструкции, Mask Etcher обладает набором уникальных технологических преимуществ, необходимых при производстве фотошаблонов:

• Сохранение высокой степени чистоты камеры на протяжении всего срока эксплуатации.
• Быстрое восстановление после чистки.
• Стабильность параметров процесса не зависит от длительности эксплуатации.

Ключевые преимущества установки Mask Etcher:

• Контроль равномерности процесса травления.
• Производство фотошаблонов с наименьшим сдвигом минимального размера.
• Высокая воспроизводимость результатов.
• Высокая степень чистоты в камере.
• Малое краевое размытие рисунка.
• Возможность работы с такими материалами, как Cr, MoSi, кварц.

Основные технические характеристики установки Mask Etcher