Установка плазмохимического травления Apex SLR ICP

Apex SLR ICP компании Advanced Vacuum — это современная, универсальная, надежная система плазмохимического травления в индуктивно-связанной плазме, которая идеально подходит для решения широкого спектра технологических задач в области микроэлектроники. Apex SLR — последняя разработка компании Advanced Vacuum, в которой применены промышленные технологии оборудования компании Plasma-Therm. Высокая производительность и низкая стоимость обслуживания установки Apex SLR позволяют использовать ее как для R&D-лабораторий, так и для пилотного производства.

Установка Apex SLR в базовой комплектации оснащена автоматическим вакуумным шлюзом, что позволяет эффективно проводить процесс травления практически всех типов материалов, которые используются на микроэлектронных производствах:

GaN, GaAs, AlGaP, InP, InGaAs, HgCdTe.
SiC, Al2O3, DLC.
Si, SiO2, SiNx.
Cr, Ti, Al, TiN, TiW, Mo.
Резисты, полиимиды.

Ключевые преимущества установки Apex SLR ICP:

Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм (поштучная обработка, наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации).
Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±3%.
Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
Простой, интуитивно понятный интерфейс.
История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
Многоуровневый доступ пользователей.
Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
Простота использования и обслуживания.
Малая занимаемая площадь <1 м2.
Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».

Основные технические характеристики установки Apex SLR ICP

Размер электрода	Для пластин до 200 мм в диаметре
Загрузка	Поштучная шлюзовая загрузка, автоматический шлюз. Возможна групповая обработка на специальном носителе.
Температура электрода	Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +5...40 °С, доступны другие варианты
Материал электрода	Алюминий/керамика. Опционально доступны другие материалы
Тип прижима	Мягкий механический, охлаждение гелием. Опционально электростатический
Тип плазмы	Индуктивно-связанная
ВЧ-генератор	RIE: 600 Вт, 13,56 МГц ICP: 1200 Вт, 2 МГц Опционально 2000 Вт, 2 МГц
Вакуумная камера	Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система	Форвакуумный насос 100 м3/ч, безмасляный Турбомолекулярный насос 450 л/с Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика
Уровень вакуума	<10-6 торр
Контроль давления процесса	Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ	4 линии (стандартно). Опционально до 20 линий.
Система контроля, ПО	ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet
Электропитание	380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В)	685×1388×2063 мм с газовым шкафом на каркасе 685×1388×1250 мм без газового шкафа на каркасе Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
Сертификация	CE, SEMI-2, S8

Основные опции

Система отслеживания окончания процесса:
- Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
- Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
- Лазерная интерферометрия (LEPD)
Дополнительные газовые линии (до 20 в сумме),
Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ),
Специальные держатели образцов,
Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM,
Пакет для установки через стенку ЧПП,
Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки,
Расширенная гарантия производителя,
Специальные опции под заказ

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического травления