Главная
Новости
Статьи
Контакты
г.Екатеринбург, ул.Волгоградская, д.193, оф.310
+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32
тел/факс
Главная
/
Технологическое оборудование для микроэлектроники
/
Плазменные процессы
/ Плазмохимическое осаждение
Плазмохимическое осаждение
Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD
Установка плазмохимического осаждения Vision 410 PECVD
Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Apex SLR HDPCVD
Установка плазмохимического осаждения Versaline PECVD
Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Versaline HDPCVD
Установка плазмохимического осаждения LAPECVD
Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения