г.Екатеринбург, ул.Волгоградская, д.193, оф.310
+7(343) 381-88-69 (343) 382-01-32
тел/факсГлавная / Технологическое оборудование для микроэлектроники / Плазменные процессы / Плазмохимическое осаждение / Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения
Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаж...
| арактеристика\Модель | Тип загрузки | Область загрузки (диаметр, мм) | Технология | Осаждение материала |
| Advanced Vacuum Vision 310 PECVD | Открытая/ Бокс | 305 | PECVD | SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si |
| Advanced Vacuum Vision 410 PECVD | Открытая | 406 | PECVD | SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si |
| Advanced Vacuum Apex SLR HDPCVD | Шлюз | 200 | HDPCVD | Низкотемпературное осаждение SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si |
| Plasma-Therm Versaline PECVD | Шлюз/ кассетная/ кластер | 200 | PECVD | SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si |
| Plasma-Therm Versaline HDPCVD | Шлюз/ кассетная/ кластер | 200 | HDPCVD | Низкотемпературное осаждение SiO2, SixNy, SiOxNy, SiC, a-Si |
| Plasma-Therm LAPECVD | Кассетная | Под заказ | PECVD | SiO2, SixNy, |